11月3日,浙江大学匡翠方教授应邀为我院光电专业学生及教师做了《超分辨激光直写光刻》的报告,李宝河副院长主持了报告会。该报告介绍基于光与物质非线性作用下超分辨直写光刻的核心技术与相关系统,匡教授从光学远场超分辨显微成像技术出发,简要介绍团队近5年在点扫描超分辨显微成像领域取得的进展与成果,并详细介绍团队在前期点扫描超分辨成像基础上进一步发展起来的高精度、高通量、高稳定激光纳米直写光刻方法、技术与装置。
报告结束后,匡翠方教授热情的回答了老师同学们的提问,同与会的老师同学进行了热情交流。
报告人简介:
匡翠方,浙江大学光电学院教授,极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任,国家杰出青年基金获得者。主要从事超分辨显微成像、超分辨光刻相关研究,主持国家自然科学基金委重大仪器专项基金等各类项目。成果获得2019年中国技术发明二等奖,2019年度王大珩光学奖,中青年科技人员光学奖,2016、2019年度中国光学十大进展。